工業清洗可分為化學清洗和物理清洗,光學玻璃清洗劑屬于化學清洗技術,是利用清洗劑對表面污垢.進行軟化、溶解，或向污垢內部滲透、減小污垢顆粒間的結合力，更重要的是減小污垢與基體間的結合力，使污垢溶解或松散脫落而去除的過程。
光學玻璃清洗劑在工業用清洗劑領域中比例較少,主要清洗目標有手機蓋板玻璃清洗、液晶面板清洗、球面鏡頭清洗、LCD、ITO玻璃清洗、各種棱鏡清洗、相機鏡頭清洗、鏡片清洗、窗口片清洗、珠寶清洗及各類光學產品。
光學玻璃清洗劑的使用方法:
1，首先，光學玻璃產品的污垢分為固休污垢,水溶性污,化學結合型污質,物理結合型污垢，光學清洗劑S-11作用是強潤濕滲透性,分散乳化污垢,增溶破乳性等一系列物理化學作用將污垢清洗除去。目的：促使部分蓋板污漬白點等微粒物進行化學容化，不能容化的微粒物進行軟化，使污漬表面活性增加，能更好的清洗除掉。具體參數需跟據產品工藝來設定，可從小到大，從低到高來向上調。
2，浸泡清洗，可跟據不同產品工藝要求選擇浸泡液，浸泡時間一般在5-10分種，如絲印鍍膜后的產品浸泡時間在2-5分種，可跟據不同的油墨和膜種測定時間。目的：促使部分蓋板污漬白點等微粒物進行化學容化，不能容化的微粒物進行軟化，使污漬表面活性增加，能更好的清洗除掉。具體參數需跟據產品工藝來設定，可從小到大，從低到高來向上調。
3，二段清洗主要作用：滲透作用,表面活性劑,抗靜電,親水性,憎水性，溶水性。強堿清洗通過化物理處理后，把各種污垢溶解分散軟化。通過P3粉的滲透作用,泡沫作用,表面活性,抗靜電,親水性,憎水性，溶水性，再次把玻璃蓋板污漬白點的微粒物清洗清除，P3粉同時具有S-11的潤濕滲透性,分散乳化污垢,增溶破乳性等一系列物理化學作用。
光學 璃清洗劑屬于高精密,結凈度要求最高的清洗劑,普通清洗劑用肉眼觀察無污垢即可，而學玻璃清洗劑需要在強光下專業的技術下檢測表面的潔凈度,必須做到無任何白點,水印,發蒙的現象.所以耐堿無泡表面活性劑是光學玻璃清洗的首選。
GN980無泡玻璃清洗劑
產品詳情適用范圍：
本品是原玻璃基板、ITO 導電玻璃基板、鍍膜玻璃基板、硅片、陶瓷及光學鏡片等材料的最佳清洗劑。對油污、粉塵、指印、纖維等污物有很強的去除能力，對金屬離子、重金屬離子有很強的絡合作用。其突出特點是：不含表面活性劑，清洗過程中不產生泡沫，利于機器運行，易漂洗，抗污物再沉淀，廢液對環境無污染、無毒害。
使用方法：
適用工藝：超聲波清洗、毛刷涮洗、浸泡清洗、噴淋清洗等;
使用濃度：按 3-5%的比例稀釋于 DI 水(蒸餾水)中使用(經孔徑<1μ的過濾器濾過);
使用溫度：30-50℃;
使用壽命：每清洗 3 萬片 14×14 英寸玻璃基板，更換全部清洗劑(期間視濃度損失情況，每過 8 小時可適當補加清洗劑)。
典型清洗工藝：
[清洗劑刷洗 1-2min，30-40℃]→[清洗劑超聲清洗 1-2min，30-40℃]→[風刀吹]→
[純水刷洗 1-2min，30-40℃] → [純水超聲漂洗 1-2min，30-40℃] →
[純水噴淋漂洗，3-5min，室溫—40℃]→ [風刀吹干] → [紅外爐(或熱板爐)，紫
外線] → [送出]
本品是電子產品、原玻璃基板、導電玻璃基板、鍍膜玻璃基板、硅片、陶瓷及光學鏡片等材料的最佳清洗劑。
其突出特點是：對油污、粉塵、指印、纖維等污物有很強的去除能力，可迅速清除各種高級鏡片上的指紋、油污、鹽分、灰塵、松香、飾面靜電等有害物質，揮發速度快，沒有殘留物，對玻璃、硅膠等鏡片沒有傷害，是二次清洗必備擦洗產
品。
